2025年8月3日-8日，第21届晶体生长与外延国际会议（21st International Conference on Crystal Growth and Epitaxy）在中国西安成功举办。
本次大会百锐公司研发团队在集团首席专家张昌龙教授的带领下参加了此次会议，并与人工晶体领域的优秀科研人员相互学习和交流。
公司研发工程师赵炜迪作了题为“Research on HighQuality Domain Inversion Fabrication in Hydrothermal PPKTP Crystals”的口头报告，介绍了公司在周期极化晶体方面取得的最新突破。此次参会，不仅有效宣传了我院在晶体领域的研究成果，也加强了与国际同行的联系，为未来开展更深入的国际合作奠定了良好基础。
作为该领域规模最大、历史最悠久、学术水平最高的国际会议，ICCGE每三年举办一次，是世界各国科学家、工程师和产业界人士交流最新研究成果、探讨技术发展趋势、建立合作的重要平台。本届大会吸引了来自全球二十多个国家地区的500余名专家学者和业界代表参会。会议围绕晶体生长理论、模拟、新技术、新材料、外延工艺、表征技术等领域的应用等议题，通过大会报告、邀请报告、口头报告、海报展示等多种形式，展开了广泛而深入的交流，充分展现了当前国际晶体生长与外延研究的前沿动态与蓬勃活力。
